| 肖畅飞,邹树梁,唐德文,李奎江,刘昌福.沉积温度对直流磁控溅射TiN薄膜结构和表面形貌的影响[J].南华大学学报(自然科学版),2017,31(4):86~89.[XIAO Chang-fei,ZOU Shu-liang,TANG De-wen,LI Kui-jiang,LIU Chang-fu.Effect of Deposition Temperature on Structure and Surface Morphology of TiN Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering[J].Journal of University of South China(Science and Technology),2017,31(4):86~89.] |
| 沉积温度对直流磁控溅射TiN薄膜结构和表面形貌的影响 |
| Effect of Deposition Temperature on Structure and Surface Morphology of TiN Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering |
| 投稿时间：2017-08-21 |
| DOI： |
| 中文关键词: 磁控溅射 锆合金 氮化钛 沉积温度 |
| 英文关键词:magnetron sputtering Zircaloy TiN deposition temperature |
| 基金项目:核设施退役和核泄漏安全处理技术及装备研发(02072012KIT01) |
| 作者 | 单位 | E-mail | | 肖畅飞 | 南华大学 机械工程学院,湖南 衡阳 421001
南华大学 核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室,湖南 衡阳 421001 | 1225992322@qq.com | | 邹树梁 | 南华大学 机械工程学院,湖南 衡阳 421001
南华大学 核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室,湖南 衡阳 421001 | | | 唐德文 | 南华大学 机械工程学院,湖南 衡阳 421001
南华大学 核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室,湖南 衡阳 421001 | | | 李奎江 | 南华大学 机械工程学院,湖南 衡阳 421001
南华大学 核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室,湖南 衡阳 421001 | | | 刘昌福 | 南华大学 机械工程学院,湖南 衡阳 421001
南华大学 核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室,湖南 衡阳 421001 | |
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| 中文摘要: |
| 利用直流磁控溅射技术,在锆合金基体表面上研究不同基体温度对沉积TiN薄膜的影响.分别采用X射线衍射仪和扫描电子显微镜(SEM)对TiN薄膜结构、表面形貌和截面形貌进行了研究.研究结果表明:TiN薄膜在不同沉积温度下晶格取向是不同的;200 ℃时,TiN为随机取向;300 ℃时,TiN薄膜以(111)为择优取向;400 ℃时,薄膜晶化质量不断提高,最后逐渐趋于稳定.300 ℃时,薄膜的致密性与均匀性较好,表面无明显缺陷. |
| 英文摘要: |
| The effects of different substrate temperatures on the TiN thin films were investigated on the surface of zirconium alloy by DC magnetron sputtering.The structure,surface morphology and cross-sectional morphology of TiN films were studied by X-ray diffraction and scanning electron microscopy (SEM).The results show that the lattice orientation of TiN thin films is different at different deposition temperatures.At 200 ℃,the orientation were random;At 300 ℃,the (111) plane is the preferred one;At 400 ℃,the crystallization quality of the thin film increases firstly and then becomes stable.At 300 ℃,TiN thin film was more compact and uniform. |
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